半導體離子注入技術是一種材料表面改性高新技術，在半導體材料摻雜，金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用，在當代制造大規模集成電路中，可以說是一種必不可少的手段。

　　用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發生一系列物理的和化學的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結構和性能發生變化，從而優化材料表面性能，或獲得某些新的優異性能。

　　材料介紹

　　熱沉鎢鉬科技離子注入機用鎢鉬產品具有穩定的高純度，良好的力學性能，以保證適合加工形狀復雜的弧室零部件。

　　高純度鎢鉬弧室是半導體芯片良率的基本保障，熱沉鎢鉬科技的高性能離子注入Source Head鎢鉬部件又極大降低了機臺維護頻率，保證了客戶產能，是客戶最佳產品選擇。

　　我公司生產的如下材料可廣泛應用于半導體離子注入部件:

　　- 鎢棒、鎢板、鎢箔、鎢絲

　　產品規格

　　擁有完整的進口精密加工設備，以自產的鎢、鉬、鉭、鈮材料做為品質基礎，結合國外先進技術，能夠按客戶的要求設計、生產加工高精度高品質產品。

　　名稱密度 g/cm3高溫抗拉強度  Mpa（1000℃）延伸率  %HV30

　　ASTM B760-2007(T=4.75)≥19.1≥380≥1-

　　W  (T=4)19.24502400

　　主要化學成分%WFeNiSi

　　W  (T=4)99.9990.0020.00030.0009

　　成功案例

　　熱沉鎢鉬科技有完整的材料加工設備，可以向用戶提供鎢、鉬、鉭、鈮及其合金等難熔金屬的板、片、棒、桿。  能夠提供大束流、中束流、高能離子源用鎢、鉬制品；可以提供鎢高能離子源部件、鎢或鉬的大束流離子注入部件，鉬中束流離子源部件。目前產品已經提供給臺灣、美國等知名廠商。